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Hellma CaF?-Rundscheiben光學(xué)設(shè)備分析
簡要描述：Hellma CaF?-Rundscheiben光學(xué)設(shè)備分析Hellma CaF?-Rundscheiben產(chǎn)品案例分析一、材料特性（一）晶體基礎(chǔ)參數(shù)材料采用 CaF?單晶，純度等級為 LD-A，適用于 193nm 波長環(huán)境，晶體取向為 <111> 晶向。該晶向具有特定的光學(xué)對稱性，符合高精度光學(xué)元件對晶體結(jié)構(gòu)均勻性的要求，確保在紫外波段的透光性能及機械穩(wěn)定性。
產(chǎn)品型號：- 廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商
- 更新時間：2025-12-03
- 訪 問 量：137
Hellma CaF?-Rundscheiben光學(xué)設(shè)備分析Hellma CaF?-Rundscheiben產(chǎn)品案例分析
一、材料特性
（一）晶體基礎(chǔ)參數(shù)
材料采用 CaF?單晶，純度等級為 LD-A，適用于 193nm 波長環(huán)境，晶體取向為 <111> 晶向。該晶向具有特定的光學(xué)對稱性，符合高精度光學(xué)元件對晶體結(jié)構(gòu)均勻性的要求，確保在紫外波段的透光性能及機械穩(wěn)定性。
（二）光學(xué)性能基礎(chǔ)
CaF?材料在 193nm 波長下表現(xiàn)出特定的光學(xué)特性，其本征透光率、折射率等參數(shù)滿足紫外光學(xué)系統(tǒng)的應(yīng)用需求。單晶結(jié)構(gòu)避免了多晶材料的晶界散射問題，提升了元件在嚴苛光學(xué)環(huán)境中的可靠性。
二、幾何參數(shù)設(shè)計
（一）尺寸規(guī)格
產(chǎn)品為圓形薄片（Rundscheiben），直徑 28.0mm，厚度 5.0mm，呈平面 - 平面（plan-plan）平行結(jié)構(gòu)。該尺寸設(shè)計適用于需要緊湊空間安裝的光學(xué)系統(tǒng)，平行平面結(jié)構(gòu)為光路傳輸提供了基礎(chǔ)幾何條件。
（二）形狀特征
嚴格的圓形輪廓加工確保了元件在旋轉(zhuǎn)對稱光學(xué)系統(tǒng)中的兼容性，平面度控制滿足光入射與出射的平行性要求，避免因表面曲率偏差引入的像差問題。
三、公差控制方案
抱歉，您的問題我無法識別。
四、表面質(zhì)量控制
（一）表面加工工藝
表面采用研磨（geschliffen）處理，粗糙度參數(shù) Rq 為 2μm。該加工工藝在去除加工缺陷的同時，形成適合后續(xù)光學(xué)處理（如鍍膜）的基底表面，2μm 的粗糙度等級滿足中高精度光學(xué)元件的表面要求。
（二）表面缺陷控制
研磨工藝過程中需控制劃痕、凹坑等宏觀缺陷，確保表面無影響透光性能的可見損傷，符合紫外光學(xué)元件對表面完整性的基本要求。
五、邊緣保護設(shè)計
（一）保護邊結(jié)構(gòu)
元件邊緣設(shè)有 0.5mm 寬度的保護邊，用于減少運輸、安裝過程中邊緣碰撞導(dǎo)致的破損風(fēng)險。該結(jié)構(gòu)在不影響光學(xué)有效區(qū)域的前提下，提升了元件的機械耐用性。
（二）保護邊加工精度
保護邊與主體平面的過渡區(qū)域需平滑，避免應(yīng)力集中點，其寬度公差需與主體尺寸公差協(xié)同控制，確保保護功能的一致性。
六、應(yīng)用適配分析
（一）光學(xué)系統(tǒng)兼容性
基于 <111> 晶向的單晶結(jié)構(gòu)、193nm 波長適配性及平面平行結(jié)構(gòu)，該元件適用于紫外光刻、光譜分析等需要高透光率與低散射的精密光學(xué)系統(tǒng)。在紫外光刻中，其 CaF?材料對 193nm 波長的高透過率可保證光刻圖案的精準轉(zhuǎn)移；光譜分析系統(tǒng)中，單晶結(jié)構(gòu)帶來的低散射特性有助于提高光譜分辨率，降低背景噪聲干擾。
（二）機械安裝要求
直徑與厚度公差范圍為機械夾具設(shè)計提供了明確的配合參數(shù)，保護邊結(jié)構(gòu)允許一定程度的邊緣接觸，簡化了安裝過程中的定位與固定設(shè)計。在設(shè)計夾具時，可依據(jù)直徑 ±0.1mm、厚度 ±0.1mm 的公差進行間隙配合設(shè)計，保護邊可作為安裝時的定位基準，減少安裝過程中的位置偏差風(fēng)險，提升安裝效率與穩(wěn)定性 。
七、制造工藝要點
抱歉，我無法回答這個問題。
Hellma 作為的光學(xué)元件制造商，其產(chǎn)品線覆蓋高精度比色皿、光纖組件、激光光學(xué)器件、生物醫(yī)學(xué)光學(xué)等多個領(lǐng)域。由于產(chǎn)品型號數(shù)量龐大且不斷更新，以下結(jié)合公開信息和行業(yè)實踐，為您梳理其核心產(chǎn)品線及典型型號，并提供選型建議：
一、核心產(chǎn)品線與典型型號
光譜分析比色皿
標準系列：
110-QS（10mm 光程，熔融石英材質(zhì)，適用于紫外 - 可見光譜）
100-QX（10mm 光程，超低熒光石英，適用于熒光光譜）
6030-OG/UV（30mm 光程，玻璃 / 石英材質(zhì)，帶螺紋接口）
微量系列：
TrayCell 2.0（96 孔板，每孔 14.5μL，適配高通量篩選）
730-009-44（96 孔微測試板，合成石英材質(zhì)，光程 1mm）
高溫高壓系列：
109000F-10-40（10mm 光程，不銹鋼外殼，耐高壓至 100bar）
光纖組件
Excalibur 探頭：
730-009-44（96 孔光纖探頭，集成透鏡設(shè)計）
Q-Series（定制化光纖束，支持多模 / 單模傳輸）
光纖連接器：
FC/APC、SC/PC 等標準接口，適配不同光纖類型
激光光學(xué)器件
準分子激光窗口：
Lithotec® CaF2（157nm/193nm 激光透過率 > 99%，直徑可達 420mm）
紅外光學(xué)元件：
BaF2 窗口（12μm 紅外透過率 > 90%，低折射率設(shè)計）
激光透鏡：
平凸 / 雙凸透鏡，用于光束整形和聚焦
生物醫(yī)學(xué)光學(xué)
Flow Cells：
115B-10-40（10mm 光程，生物兼容性石英，適配流式細胞儀）
顯微物鏡：
UV-Fluor 系列（適用于熒光顯微鏡）
二、型號命名規(guī)則解析
Hellma 的型號通常包含以下信息：
數(shù)字部分：表示核心規(guī)格，如光程（10mm→10）、容量（3500μL→3500）
字母代碼：
材料：QS（熔融石英）、OG（光學(xué)玻璃）、CaF2（氟化鈣）
功能：CD（圓二色光譜）、FC（流式細胞）
系列：QX（超低熒光）、Excalibur（探頭系列）
后綴：
-40：表示標準接口（如 SMA905）
-B：表示生物兼容性涂層
示例：110-QS-10-40
110：產(chǎn)品系列
QS：熔融石英材質(zhì)
10：10mm 光程
40：SMA905 接口
三、選型建議與資源獲取
資源
產(chǎn)品目錄：提供 PDF 格式的《Optical Components Catalog》，涵蓋全系列產(chǎn)品
分銷商支持
北京漢達森：代理部分標準型號（如 110-QS、100-QX），提供現(xiàn)貨查詢
定制化服務(wù)
材料選擇：可定制 CaF2、BaF2、熔融石英等特殊光學(xué)材料
接口設(shè)計：支持 SMA、FC、螺紋等非標接口
四、注意事項
停產(chǎn)型號：部分舊型號（如早期玻璃比色皿）已被新型號替代，建議通過確認可用性
認證要求：生物醫(yī)學(xué)應(yīng)用需選擇 FDA 認證材料（如 115B 系列）
技術(shù)參數(shù)：關(guān)鍵指標（如熒光背景、激光損傷閾值）需參考測試報告
五、延伸閱讀
應(yīng)用案例：Hellma “應(yīng)用中心" 提供光譜分析、激光加工、生物制藥等領(lǐng)域的解決方案
行業(yè)標準：符合 ISO 17025 認證的校準服務(wù)，確保測量精度
如需完整型號列表或定制化方案，建議直接聯(lián)系 Hellma 銷售網(wǎng)絡(luò)或訪問其獲取新信息。
104.002-05
104.002-05
104.002B-05
104.002B-05
105-05
108.002-Q5
108.002B-05
115-05
115B-05
117100F-10-40
117200F-10-40
117104F-10-40
117204F-10-40
176-760-85-40
176-761-85-40
176-762-85-40
176-765-85-40
176-766-85-40
176-760-15-40
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176-762-15-40
176-765-15-40
176-766-15-40
110-QX-10
110-QS-10
105.200-QS-10
100-QX-5
100-QS-20
110-QS-40
Hellma 作為的光學(xué)元件制造商，其產(chǎn)品線覆蓋高精度比色皿、光纖組件、激光光學(xué)器件、生物醫(yī)學(xué)光學(xué)等多個領(lǐng)域。由于產(chǎn)品型號數(shù)量龐大且不斷更新，以下結(jié)合公開信息和行業(yè)實踐，為您梳理其核心產(chǎn)品線及典型型號，并提供選型建議：
一、核心產(chǎn)品線與典型型號
光譜分析比色皿
標準系列：
110-QS（10mm 光程，熔融石英材質(zhì)，適用于紫外 - 可見光譜）
100-QX（10mm 光程，超低熒光石英，適用于熒光光譜）
6030-OG/UV（30mm 光程，玻璃 / 石英材質(zhì)，帶螺紋接口）
微量系列：
TrayCell 2.0（96 孔板，每孔 14.5μL，適配高通量篩選）
730-009-44（96 孔微測試板，合成石英材質(zhì)，光程 1mm）
高溫高壓系列：
109000F-10-40（10mm 光程，不銹鋼外殼，耐高壓至 100bar）
光纖組件
Excalibur 探頭：
730-009-44（96 孔光纖探頭，集成透鏡設(shè)計）
Q-Series（定制化光纖束，支持多模 / 單模傳輸）
光纖連接器：
FC/APC、SC/PC 等標準接口，適配不同光纖類型
激光光學(xué)器件
準分子激光窗口：
Lithotec® CaF2（157nm/193nm 激光透過率 > 99%，直徑可達 420mm）
紅外光學(xué)元件：
BaF2 窗口（12μm 紅外透過率 > 90%，低折射率設(shè)計）
激光透鏡：
平凸 / 雙凸透鏡，用于光束整形和聚焦
生物醫(yī)學(xué)光學(xué)
Flow Cells：
115B-10-40（10mm 光程，生物兼容性石英，適配流式細胞儀）
顯微物鏡：
UV-Fluor 系列（適用于熒光顯微鏡）
二、型號命名規(guī)則解析
Hellma 的型號通常包含以下信息：
數(shù)字部分：表示核心規(guī)格，如光程（10mm→10）、容量（3500μL→3500）
字母代碼：
材料：QS（熔融石英）、OG（光學(xué)玻璃）、CaF2（氟化鈣）
功能：CD（圓二色光譜）、FC（流式細胞）
系列：QX（超低熒光）、Excalibur（探頭系列）
后綴：
-40：表示標準接口（如 SMA905）
-B：表示生物兼容性涂層
示例：110-QS-10-40
110：產(chǎn)品系列
QS：熔融石英材質(zhì)
10：10mm 光程
40：SMA905 接口
三、選型建議與資源獲取
資源
產(chǎn)品目錄：提供 PDF 格式的《Optical Components Catalog》，涵蓋全系列產(chǎn)品
分銷商支持
北京漢達森：代理部分標準型號（如 110-QS、100-QX），提供現(xiàn)貨查詢
定制化服務(wù)
材料選擇：可定制 CaF2、BaF2、熔融石英等特殊光學(xué)材料
接口設(shè)計：支持 SMA、FC、螺紋等非標接口
四、注意事項
停產(chǎn)型號：部分舊型號（如早期玻璃比色皿）已被新型號替代，建議通過確認可用性
認證要求：生物醫(yī)學(xué)應(yīng)用需選擇 FDA 認證材料（如 115B 系列）
技術(shù)參數(shù)：關(guān)鍵指標（如熒光背景、激光損傷閾值）需參考測試報告
五、延伸閱讀
應(yīng)用案例：Hellma “應(yīng)用中心" 提供光譜分析、激光加工、生物制藥等領(lǐng)域的解決方案
行業(yè)標準：符合 ISO 17025 認證的校準服務(wù)，確保測量精度
如需完整型號列表或定制化方案，建議直接聯(lián)系 Hellma 銷售網(wǎng)絡(luò)或訪問其獲取新信息。
八、質(zhì)量檢測標準
（一）幾何參數(shù)檢測
采用光學(xué)投影儀對直徑進行測量，將元件放置于投影儀工作臺上，通過光學(xué)成像系統(tǒng)獲取元件輪廓圖像，測量軟件基于圖像邊緣識別技術(shù)，精確測量直徑尺寸，確保其在 28.0±0.1mm 范圍內(nèi) 。使用千分尺對厚度進行多點測量，在元件表面均勻選取至少三個測量點，旋轉(zhuǎn)千分尺測量軸，使其與元件表面緊密貼合，讀取測量值，取平均值作為厚度測量結(jié)果，控制厚度在 5.0±0.1mm 公差范圍內(nèi)。利用平面度測量儀檢測平面 - 平面的平行性，通過干涉原理測量兩平面間的干涉條紋，根據(jù)條紋分布計算平面度誤差，確保平行度滿足光學(xué)系統(tǒng)對平面平行性的嚴格要求。
（二）表面質(zhì)量檢測
運用非接觸式粗糙度測量儀驗證表面粗糙度 Rq=2μm，測量儀通過光學(xué)掃描或觸針掃描方式獲取表面微觀輪廓數(shù)據(jù)，經(jīng)數(shù)據(jù)處理計算出 Rq 值，確保研磨后的表面粗糙度符合設(shè)計要求。輔以目視檢查，在充足照明條件下，將元件置于黑色背景板上，從不同角度觀察表面，檢查是否存在明顯劃痕、凹坑等宏觀缺陷；對于難以用肉眼分辨的微觀缺陷，使用顯微鏡進行放大觀察，確保表面無影響元件光學(xué)性能的加工瑕疵。
（三）晶體結(jié)構(gòu)驗證
借助偏光顯微鏡檢測晶體取向，將元件置于偏光顯微鏡載物臺上，調(diào)整偏振片角度，觀察晶體在正交偏振光下的消光現(xiàn)象，根據(jù)消光方向與晶體結(jié)構(gòu)的關(guān)系，確定晶體取向是否為 <111>。利用 X 射線衍射儀分析晶體完整性，X 射線照射元件后，產(chǎn)生的衍射圖案反映晶體內(nèi)部原子排列信息，通過與標準 CaF?單晶衍射圖譜對比，檢測晶體結(jié)構(gòu)是否存在明顯缺陷、位錯或晶界污染，確保滿足 LD-A 等級的材料要求，保證元件在光學(xué)應(yīng)用中的穩(wěn)定性與可靠性。
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